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吸氫片

  • 吸氫片 - 3-1
吸氫片
型號 - 3-1
Rel-Hy® 除氫膜 / HCRH吸氫片
氫氣會對以鈀(Pd)和鉑(Pt)作為柵金屬並含有砷化鎵(GaAs)的密封器件造成退化是一個眾所周知的現象:貴金屬的柵極將氫氣分子變成氫原子,它會在半導體材料的內部擴散,並導致電流和器件效益降低。
Rel-Hy® 除氫膜 / HCRH吸氫片,是一種先進的吸氣劑解決方案,可以完全滿足遭受氫氣導致問題的微電子封裝的所有嚴格要求。適用於微波和射頻的砷化鎵微電子封裝或對氫氣敏感產品的密封儲存元件或容器。可以通過採用Rel-Hy® 除氫膜/ HCRH吸氫片這種吸氣劑,來解決當由氫引起的現像如砷化鎵基微電子器件中的柵極故障,或超絕緣低溫系統中的絕緣退化。
特點:
  • 針對氫氣的選擇性吸氣劑
  • 無需激活過程
  • 不會釋放顆粒,也不會污染設備
  • 易於安裝,可在空氣中輕鬆安全地使用及處理
  • 可實現低氫分壓

應用產品:
  • 微波和射頻應用的GaAs微電子封裝(GaAs MMICs)
  • 對氫敏感產品的密封儲存容器
  • 對氫氣控制的密封產品
義大利商塞斯吸氣劑股份有限公司台灣分公司
3-1
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